一氟甲烷（HFC-41, CH₃F）在半導體工業中可作為氮化膜的刻蝕氣體，用于3D NAND閃存芯片的制造過程。宇極科技經潛心研發，成功量產了電子刻蝕氣一氟甲烷，打破國內單一廠商在該產品上的業務格局。作為含氟化工品生產企業，宇極擁有獨立自主知識產權HFC-41的生產及提純工藝技術，可產出4N級高純產品，亦可能根據不同客戶的要求，對雜質組分進行有針對性的定向去除。

一氟甲烷，也稱為氟甲烷、甲基氟、氟利昂41、HFC-41、R 41。英文名稱methyl fluoride、fluoromethane，ODP為0，GWP為97。CAS號593-53-3，UN號2454，分子式CH₃F。常溫常壓下是無毒、可液化的可燃氣體，化學穩定性好。

高純HFC-41是一種綠色、高效的電子特氣，用于半導體及電子產品的刻蝕，對硅化物薄膜的刻蝕選擇性好，在射頻場下一氟甲烷HFC-41會溶解氟離子，進行反應性離子蝕刻。在已申請的應用專利中，涉及HFC-41使用的主要半導體制造商有美國應用材料、英特爾、臺灣聯華電子、東京威力科創、富士通株式會社、中芯國際集成電路制造、臺灣積體電路制造、三星等。另外，已申請刻蝕應用專利的HFC-41生產廠商有大金株式會社、中央硝子、杜邦、巨化等國內外大型氟化工企業。

HFC-41在有機合成和藥物合成中，可作為有機分子的選擇性氟甲基化試劑。同時，HFC-41也被用作重要農藥中間體氟溴甲烷的生產原料。